羟基亚乙基二膦酸应用有哪些?
电镀涂饰
通过赫尔槽试验和方槽试验研究了不同主盐对 HEDP 羟基亚乙基二膦酸体系电镀铜沉积速率电流效率镀层外观厚度结合力等的影响镀液组成为HEDP 160 g/LCu2+10 g/LK2CO360 g/LpH 9.0结果表明由于阴离子不同铜盐种类会影响电镀过程和镀层性能HEDP 体系镀铜液的最佳主盐为CuSO45H2O以CuSO45H2O为主盐时电流效率为92.5%镀速为0.18μm/min所得铜镀层表面平整致密与钢铁基体的结合力良好[3]
材料保护
为了提高钢铁基体上羟基亚乙基二膦酸HEDP镀铜层的结合强度,采用电化学工作站进行阴极极化曲线和恒电流电位-时间曲线的测定,应用弯曲折断法进行临界起始电流密度即保证镀层结合强度的最小初始电流的测定和镀层结合强度的定量测定,探讨了辅助配位剂及相关工艺参数对镀层结合强度的影响结果表明:辅助配位剂的加入提高了铜析出时的阴极极化,降低了临界起始电流密度,当用1A/dm2的电流密度进行起始电镀时,可使铁的表面在铜沉积前得到更充分的活化,使铜镀层与铁基体的结合强度提高到6416.38N/cm2,已接近铜上电镀铜的水平介绍了电镀层结合强度的定量测定方法,探讨了提高镀层结合强度的电位活化机理[4]
从常用水处理药剂中选择3种有机膦药剂PBTCA2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸HEDP羟基亚乙基二膦酸ATMP氨基三亚甲基膦酸与ClO2ZnSO4复配,通过正交试验确定了最佳配方,并利用从头计算法对该配方进行了量子化学计算,分析了缓蚀性能和分子结构的关系.结果表明:P原子净电荷QP电荷密度分子的最低空轨道能E LUMO与缓蚀率有较好的相关性.同时,计算了Fe和ClO2的最高占有轨道能E HOMO和最低空轨道能E LUMO以及二者的差值△E,说明缓蚀剂供出电子与Fe作用的趋势要大于接受电子与Fe作用的趋势,而且PBTCAHEDP和ATMP耐二氧化氯氧化的能力与缓蚀剂最低空轨道能与二氧化氯最高占有轨道能的差值LUMOinhib-HOMOClO2值有较好的相关性
废水处理
采用静态阻垢法测定不同浓度的HEDP药剂对碳酸钙垢的阻垢效果.测定阻垢试验的溶液中实际残留的HEDP药剂浓度,考察了不同Ca2+浓度与HEDP的沉积效应,研究结果表明,在低Ca2+浓度时.HEDP药剂对碳酸钙有良好的阻垢效果;在高Ca2+浓度的溶液中,HEDP药剂与溶液中大量的Ca2+结合,形成不溶性有机膦酸盐-钙复合体而沉积,而影响HEDP药效的发挥.
日用化学
对适用于孤东六区稠油冷采条件的无碱超低界面张力两亲聚合物强化泡沫驱油体系,通过电导率界面张力及黏度等手段研究了羟基亚乙基二膦酸四钠HEDP-Na4对石油磺酸盐/两亲聚合物体系界面张力及黏度的影响HEDP-Na4一方面能够通过盐效应调节石油磺酸盐的亲水亲油平衡,促进石油磺酸盐在油/水界面上的吸附,另一方面能够鳌合溶液中的Ca2+和Mg2+,减小高价金属离子对石油磺酸盐和Ⅰ型两亲聚合物的影响,从而使得体系界面张力大幅降低和黏度小幅升高;并且HEDP-Na4对石油磺酸盐与Ⅰ型两亲聚合物之间的相互作用影响不大